Am IBM-Forschungszentrum in Zürich ist es gelungen, Strukturen zu erzeugen, die nur ein tausendstel der Dicke eines menschlichen Haares besitzen. Mit einer Weiterentwicklung der Fotolithografie, des üblichen Verfahrens zur Herstellung von Computerchips, schufen die Forscher 100 Nanometer (millionstel Millimeter) breite Rillen.
Dazu trugen sie einen Lichtstempel aus dem biegsamen Kunststoff Siloxan auf eine Siliziumscheibe (Wafer) auf, die zuvor mit einem lichtempfindlichen Lack beschichtet wurde. Bei einer Belichtung mit einem UV-Laser wird das Relief des Stempels direkt in den Fotolack übertragen.
Schon jetzt bietet das Verfahren eine preiswerte Möglichkeit zur Herstellung von Polarisationsfiltern, optischen Beugungsgittern und Hologrammen. Künftig sollen damit kleinere Chips produziert werden, als es technisch bislang möglich ist.
