Auf diese Weise sollen sich in absehbarer Zukunft dreidimensionale elektronische Schaltkreise herstellen lassen, die zu einer weiteren Miniaturisierung von Mikrochips führen sollen. Auch die Herstellung von mikroelektromechanischen Maschinen (MEMS), ultrakleinen mechanischen Bauteilen, könnte mittels des neuen Verfahrens einen Schub erhalten.
Elektronische Schaltkreise für Chips werden zumeist mittels Elektronenstrahllithographie hergestellt. Dabei wird das Substrat, meist eine dünne Halbleiterschicht, mit einer dünnen Maske überzogen. Ein Elektronenstrahl schreibt Strukturen in diese Maske. Ein der Fotografie ähnlicher Entwicklungsschritt löst das Maskenmaterial genau in den eingeschriebenen Strukturen auf. Wenn nun ein Metall aufgedampft und das restliche Maskenmaterial anschließend entfernt wird, bleiben die gewünschten, mit dem Elektronenstrahl vorgezeichneten Metallstrukturen auf dem Substrat zurück ? fertig ist ein zweidimensionaler elektronischer Schaltkreis.
Die neue Technik der Harvard Gruppe ermöglicht nun, mehrere solche Schaltkreise an genau definierten Stellen miteinander zu einer komplizierten dreidimensionalen Struktur zu verketten.
