Der Chiphersteller Intel plant die Produktion elektronischer Schaltkreise mit Abmessungen von unter 45 Nanometern (Millionstel Millimetern). Ein Auftrag für die Lieferung einer entsprechenden Photolithographiestation zur Herstellung der Halbleiterstrukturen erging an den niederländischen Konzern ASML. Die neue Lithographietechnik setzt Licht einer Wellenlänge von nur 13.5 Nanometern im extremen UV-Bereich des Spektrums ein.
Die derzeitig in der Halbleiterindustrie eingesetzten Lithographiestationen können Strukturen mit einer Größe von ungefähr 180 Nanometern mittels sogenannter Excimerlaser erzeugen. Der geplante Einsatz von Licht einer noch kleineren Wellenlänge erfordert eine erhebliche Umstellung der Produktionsabläufe. So muss beispielsweise die gesamte Belichtung und Entwicklung der in dem Lithographieprozess eingesetzten Photomasken im Vakuum erfolgen. Zudem muss die Optik von Transmission auf Reflexion umgestellt werden. Intel zufolge soll die neue Technik im Jahre 2005 einsatzbereit sein.
Stefan Maier
